刘昌龙天津大学理学院副院长

发布网友发布时间：2024-10-13 18:18

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热心网友时间：2024-10-13 19:26

刘昌龙，1967年出生于江苏，毕业于南京大学物理系磁学专业，1989年获得南京大学学士学位。随后在中国科学院近代物理研究所工作，并于1999年获得理学博士学位。刘昌龙在英国萨利大学担任访问学者一年，并在法国国家科研中心（CNRS）和欧洲ST微电子公司担任博士后研究员。2003年7月起，他成为天津大学理学院物理系教授，并自2005年起担任天津大学理学院副院长。他的研究领域包括粒子与固体相互作用和离子注入材料表面改性。

在科研方面，刘昌龙主持、参加和完成了多项国家自然科学基金项目、中国科学院“八五”、“九五”重点基金项目以及多项甘肃省自然科学基金项目。他在国内外核心期刊上发表论文30余篇，其中20篇被《SCI》和《EI》收录。

刘昌龙是中国核物理学会会员。他的部分代表著作包括：《高能Ar离子照射后硅的损伤生产》、《PET薄膜由35MeV/u Ar离子诱导的化学改性》、《PET薄膜在高能Ar离子轰击下的分子构象变化》、《高能Ar离子照射对聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜效果的研究》、《Si与He离子共注入后Si中的空洞演化》以及《在硅中形成空洞时顶层氧化层的作用》。