13.5nm Mo/Si 多层膜、高性能极紫外光学元件:实测反射率高达70%_百 ...
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发布时间：2024-10-01 16:43
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时间：2024-10-17 14:46
引言</
极紫外光（EUV），这个介于真空紫外与软X射线之间的神秘地带，波长跨度仅在几纳米至几十纳米之间，对科学研究和工业应用具有无可估量的价值。HHG光源与XFEL技术在超快速和高强度实验中大放异彩，而在工业界，LPPS激光驱动等离子体光源则将EUV光刻和检测技术引入大规模生产领域。自1976年Mo/Si多层膜首次出现以来，其性能不断提升，尤其在13nm波长附近，峰值反射率突破了60%，甚至达到了令人瞩目的70%。本文将深入解析这种技术背后的原理，以及北京众星联恒科技与德国optiXfab联合推出的1英寸13.5nm高性能多层膜镜片的卓越性能。
Mo/Si多层膜的原理与工艺</
极紫外光对所有物质的吸收极其强烈，典型的吸收长度仅几百纳米。为突破这一难题，科研人员采用全反射技术，如薄层C或Au，但尺寸要求大，且收集效率有限。多层膜技术则通过精心设计的周期性结构，利用布拉格衍射原理，实现了在宽角度下的高效反射，实现了对极紫外光的高效利用，仿佛人工晶体般精准选择和增强特定波长的反射。
optiXfab采用磁控溅射的镀膜工艺，如在13.5nm波长下，通过交替沉积~2.76nm的Mo和~4.14nm的Si层，构建出高性能的反射膜。
NESSY I / NESSY II镀膜机与高性能镜片</
由北京众星联恒科技与optiXfab合作的1英寸13.5nm多层膜镜片，如NESSY镀膜机所制，拥有卓越性能。这些镜片适用于极紫外光学元件和收集镜，基底尺寸可达Ø450mm和Ø700mm，且能处理曲面基底，实现梯度多层膜。optiXfab已为全球半导体工业客户生产了近3万片镜片，现在，这些技术也拓展到了科研应用，以满足HHG和激光驱动等离子体小型光源的特殊需求。
参数展示</
13.5nm Mo/Si平面反射镜</
AOI 5°：反射率＞65%
AOI 45°：反射率＞67%
带宽（FWHM）：约500 pm
基底：熔融石英，尺寸：25.4 ±0.1 mm，厚度：6.35 ±0.1 mm
面形精度：λ/20 @ 632.8 nm，表面粗糙度：σ＜0.2 nm rms
特殊镜片如13.5nm Schwarzschild物镜和B4C和Au镀层同步辐射镜片，定制选项丰富
实际测试与服务</
我们提供实际反射率测试服务，确保每一片镜片的性能达到高标准。根据您的实验需求，我们可定制不同基底、尺寸和波长的镜片，满足您的科研探索。
结语</
北京众星联恒科技，作为optiXfab在中国的独家代理，致力于为科研用户带来最专业的EUV和X射线产品解决方案。无论您在寻找高性能13.5nm Mo/Si多层膜镜片，还是寻求定制服务，我们随时准备为您提供卓越的技术支持和卓越的服务。欢迎与我们交流，共同探索极紫外光的无限可能。
