超声波喷涂——碳化硅涂层
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发布时间：2024-09-30 15:47
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时间：2024-10-04 17:06
碳化硅，化学式为SiC，是C元素和Si元素形成的化合物。碳化硅涂层石墨盘通过物理或化学气相沉积、喷涂等方法在石墨表面制备一层碳化硅保护层，增强石墨基体的抗氧化、耐酸碱、耐侵蚀等性能，是单晶硅外延生长和氮化镓（GaN）外延生长的基底之一。碳化硅在电气工业、航天工业、炼钢脱氧剂、炭素工业、石墨电极、生物炭等领域有广泛应用。
超声波喷涂技术制备碳化硅晶体膜，能够使晶体沉积均匀，提高生长膜的一致性。此技术在碳化硅器件制备和研究中具有重要意义，广泛应用于新能源、光电子、电力电子、传感器、生物医药等领域。
YMUS-ZS400超声波喷涂设备，采用超声波喷头技术，提供均匀高效的薄膜喷涂，涂层厚度控制精度高，可精确控制二十纳米到数十微米的涂层厚度。设备喷涂均匀度高达95%，溶液转换率≥95%，搭载多个喷头并联工作，最大喷涂面积400*400mm。设备还具备高精度恒流供液技术、激光对位、进口高精度精密减压阀及液体阀门、喷嘴和液路管道自清洗系统、在线分散供液系统、微米级微孔真空吸加热等功能，适合多种基材。
超声波喷涂——碳化硅涂层
超声波喷涂技术制备碳化硅晶体膜，能够使晶体沉积均匀，提高生长膜的一致性。此技术在碳化硅器件制备和研究中具有重要意义，广泛应用于新能源、光电子、电力电子、传感器、生物医药等领域。YMUS-ZS400超声波喷涂设备，采用超声波喷头技术，提供均匀高效的薄膜喷涂，涂层厚度控制精度高，可精确控制二十纳米到数十...
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