发布网友 发布时间:2024-09-26 23:24
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热心网友 时间:2024-10-04 02:28
硫化锌掺锰靶材,硫化锌掺铽靶材,硫化钙掺铕靶材,氧化钇靶材,氧化钽靶材,钛酸钡靶材等。热心网友 时间:2024-10-04 02:33
用于电致发光薄膜方面的靶材主要包括以下几种:
一、主要靶材种类
硫化物靶材:
硫化锌掺锰靶材:硫化锌(ZnS)作为基质材料,掺入锰(Mn)作为激活剂,通过掺杂改善其电致发光性能。
硫化锌掺铽靶材:同样以硫化锌为基质,掺入铽(Tb)作为激活剂,用于制备具有特定发光特性的电致发光薄膜。
硫化钙掺铕靶材:硫化钙(CaS)作为另一种基质材料,掺入铕(Eu)后,在电场作用下能发出特定颜色的光。
氧化物靶材:
氧化钇靶材(Y₂O₃):氧化钇作为发光材料,具有良好的化学稳定性和热稳定性,适用于制备高性能的电致发光薄膜。
氧化钽靶材(Ta₂O₅):氧化钽同样具有优异的物理和化学性质,可用于电致发光薄膜的制备。
钛酸钡靶材(BaTiO₃):钛酸钡是一种重要的介电材料,也具有电致发光性能,可用于特定需求的电致发光薄膜。
二、其他相关靶材
除了上述主要靶材外,还有一些其他材料也被用于电致发光薄膜的制备,如:
氮化硅靶材(Si₃N₄):虽然氮化硅主要用于其他领域(如半导体、陶瓷等),但在某些特定条件下,它也可能被用于电致发光薄膜的制备。
铝靶材、铜靶材等金属靶材:这些金属靶材通常不直接用于电致发光薄膜的制备,但可能作为电极或其他功能层的一部分,在电致发光器件中起到重要作用。
三、制备方法与技术
电致发光薄膜的制备通常涉及多种技术,包括真空蒸发、溅射、外延技术(如分子束外延MBE和原子层外延ALE)以及化学气相沉积(如金属有机化合物化学相沉积MOCVD)等。这些技术可以根据具体需求和材料特性进行选择和优化。
四、应用与前景
电致发光薄膜在显示和显像领域具有广泛的应用前景。由于它们可以制成平板等各种形状,具有视角大、光线柔和、制备工艺简单、造价便宜等特点,因此在平板显示器、发光二极管(LED)照明、柔性显示等领域具有巨大的市场潜力。
综上所述,用于电致发光薄膜方面的靶材种类繁多,包括硫化物靶材、氧化物靶材等,这些靶材在电场作用下能够发出特定颜色的光,是制备高性能电致发光薄膜的关键材料。随着技术的不断进步和应用领域的不断拓展,电致发光薄膜材料的研究和开发将迎来更加广阔的发展前景。