中国光刻机追赶国外先进水平还要多久?

发布网友发布时间：2024-09-06 08:34

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热心网友时间：2024-11-13 00:31

中国的光刻机发展取得了显著成就：上海微电子装备(集团)股份有限公司已宣布，计划在2021至2022年间交付首台28纳米工艺的国产沉浸式光刻机。这一进展表明，我国在光刻技术方面正迅速追赶国际先进水平。与国际上先进的7纳米和5纳米技术相比，我国光刻机的技术尚有差距，但与之前的90纳米技术相比，已取得了显著进步。
作为国内光刻设备领域的领军企业，上海微电子凭借其技术优势，已占据了国内市场的80%份额，全球市场也有40%的份额。其LED/MEMS/功率器件光刻机表现卓越，特别是在LED光刻机领域占据领先地位。
上海微电子拥有包括600系列步进扫描投影光刻机在内的四大系列产品。其中，600系列专为IC前道制造设计，采用四倍缩放率的投影物镜，结合工艺自适应调焦调平技术和高速高精度的自减振六自由度工件台掩模台技术，适用于90纳米、110纳米、280纳米工艺以及200毫米和300毫米晶圆的生产。500系列则针对IC后道先进封装，300系列适用于LED、MEMS和功率器件制造，200系列则专注于TFT曝光领域。这些产品展示了上海微电子在多样化应用场景中的强大适应能力。