中科院研发成功2nm光刻机
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发布时间：2024-08-20 11:23
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时间：2024-08-30 06:02
随着新能源的飞速发展和产品智能化的大趋势，高科技产业蓬勃发展。芯片作为高科技产品的核心部件，其重要性日益凸显。华为作为以智能手机为主要业务的领军企业，对芯片的需求尤为巨大。然而，受到国际环境的制约，我国高科技企业在芯片领域面临巨大挑战。其中，光刻机作为生产芯片的关键设备，其自主研发显得尤为重要。
众所周知，光刻机是芯片制造的核心设备，但其技术难度极高，长期以来依赖进口。然而，由于国际政治因素的影响，我国无法自由获取先进的光刻机技术。这导致华为等高科技企业面临“缺芯”的困境，手机业务受到重创。
为了打破这一困境，中科院立下了大功。为了实现我国高端光刻机的国产化，中科院长光所、上光所联合光电研究院于2009年启动了“高na浸没光学系统关键技术研究”项目。经过长时间的努力，中科院成功攻克了曝光光学系统的关键技术，这是光刻机的核心组成之一。
光刻机的工作原理类似于照片冲印技术。在制作好的硅圆晶表面涂上一层光刻胶后，通过紫外线或深紫外线透过掩膜版，将精细图形印制到硅片上。曝光过程中，被光线照射的部分会被腐蚀掉，未被照射的部分则保留下来，形成电路结构。因此，曝光系统是光刻机的核心之一。
国望光学在研发过程中，成功开发出90nm节点的arf投影光刻机曝光光学系统，并继续向28nm节点进攻。此外，根据国望光学发出的公示，投影光刻机曝光光学系统将应用于28nm芯片的批量生产当中。这一突破表明我国已经能够制造出性能更优越、用途更广泛的28nm芯片，特别是对于新能源产业和智能家居产业。
更重要的是，上海微电子也传出好消息，将在2021到2022年交付出第一台28nm工艺的国产沉浸式光刻机。这意味着我国已经实现了28nm芯片的自由制造，拥有了完整的知识产权和自主产业链，不再受制于海外市场。
然而，虽然28nm芯片已经能满足大部分生产需求，但对于精度要求更高的手机芯片等领域，我们仍需进行更高制程的光刻机研发。目前，我国正在积极进行5nm制程光刻机的研发，并已经制造出5nm制程的刻蚀机，这是一个鼓舞人心的消息。
然而，与世界上最先进的7nm制程光刻机相比，我们还有很长的路要走。但无论如何，中科院在光刻机技术方面的突破已经为我国芯片产业的发展奠定了坚实基础。这一成果不仅鼓舞了国内科技企业的士气，也展示了我国在高科技领域的实力与决心。随着技术的不断进步和研发的努力，我们相信国产芯片的未来一定会更加光明。
