薄膜物理与器件内容简介
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发布时间:2024-09-28 08:14
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时间:2024-11-24 13:45
《薄膜物理与器件》是一部深入探讨薄膜物理及其在器件领域的核心著作。它聚焦于薄膜材料的基础理论与实际应用,特别关注新材料技术领域中的关键薄膜类型。该书详尽阐述了薄膜的制备原理与方法,如蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀、化学气相沉积以及溶液制膜技术等,这些技术在薄膜形成过程中起着至关重要的作用。
书中对薄膜的结构、缺陷、电学性质(如电阻和电导)、力学性质(如强度和硬度)、半导体性质、磁学性质以及超导性质等进行了全面的介绍,帮助读者深入理解薄膜的内在特性。此外,作者还重点介绍了几种重要的薄膜材料,如金属、半导体、绝缘体等,并分析了它们的发展趋势和应用前景。
作为材料科学与工程、电子科学与工程、电子材料与元器件、半导体物理与器件、应用物理学等专业的教材,或是科技工作者、企业管理人员和技术人员的参考资料,《薄膜物理与器件》为学习者提供了丰富的理论知识和实用信息,有助于推动相关领域的研究和实践发展。