C-V测量三种测量技术
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发布时间:2024-10-09 01:01
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时间:2024-11-24 01:32
半导体C-V测试技术主要包括三种,分别是交流阻抗电容计、准静态电容测量以及射频技术。
首先,交流阻抗电容计通过自动平衡电桥原理工作,频率范围一般在1kHz到10MHz之间。如图1所示,它通过施加交流电压在高电流输出端,同时测量流过器件的电流和电压降,利用锁相方式计算出阻抗的幅值和相位角,从而得到基本的交流阻抗参数,如并联电容、串联电阻等。耗散因子是衡量C-V测量质量的重要指标。
其次,准静态电容测量依赖于电流和电荷的关系,通常在1~10Hz的低频范围内进行,使用两台数字源表(SMU)通过"斜率"方法计算电容,适合测量较小的电容值,如100~400pF范围内的电容,斜率在0.1~1V/S之间。
最后,射频技术利用矢量网络分析仪测量器件的散射参数(S参数),通过入射波的反射和传输系数来评估传输线的电容,这种方法适用于高频和复杂的电路分析。