发布网友 发布时间:2022-05-17 07:14
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热心网友 时间:2023-08-17 16:40
高频等离子体炬在工业中已有多方面的应用,特别是在等离子体化工、冶金和光学材料提纯等方面。它还可制备超导材料,如用氢高频等离子体还原钒-硅(或钒-锗),铌-铝(或铌-锗)的氯化物蒸气以制备超导材料。中国冶金、采矿企业中需处理的钛矿石、含钒矿渣、磷矿石以及工业难熔废料含稀有材料的矿渣很多,采用高频等离子体炬是颇有前途的冶炼手段,可从中炼出有用的金属和稀有元素。
高频等离子体发生器的功率输出范围为0.5~1兆瓦,效率为50%~75%,放电室中心温度一般约高达7000~10000开。
低气压等离子体发生器 一种低气压气体放电装置,一般由三部分组成:产生等离子体的电源、放电室、抽真空系统和工作气(或反应气)供给系统。通常有四类:静态放电装置(图5之a)、高压电晕放电装置(图5之b)、高频(射频)放电装置(有3种类型,图5之c)和微波放电装置(图5之d)。把被处理的固体表面或需要聚合膜层的基体表面置于放电环境中,由等离子体处理。由于低气压等离子体为冷等离子体,当气压为 133~13.3帕左右时,电子温度高达10000开,而气体温度只有300开,既不致烧坏基体,又有足够能量进行表面处理。 低气压等离子体发生器已日益广泛应用于等离子体聚合、制备薄膜、刻蚀、清洗等表面处理工艺中。成功的例子如:在半导*作工艺中,采用氟里昂等离子体干腐蚀,用离子镀法在金属表面生成氮化钛膜等。70年代以来,低气压等离子体对非金属固体(如玻璃、纺织品、塑料等)的表面处理及改性技术也有迅速发展。