蛋白丰富显影液怎么选择
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发布时间：2022-04-25 16:44
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时间：2023-10-19 12:59
在开发过程中，正色调抗蚀膜是通过去除暴露区域而形成的，而当使用负电阻时，未曝光区域被移除。
显影剂AR 600-50是一种溶剂型显影剂，专为共聚物薄膜而设计(AR-P617)。使用该显影剂，电子束抗蚀剂的灵敏度进一步提高。
开发人员AR 600-55也是溶剂型的，类似于下面的AR 600-56抗蚀剂.作为高速显影剂，如果需要较短的开发时间，则最好将AR 600-55用于薄膜(AR-P630-670)。共聚物薄膜(AR-P-617)、例如，作为PMMA/共聚物的两层体系，也可以与此显影剂一起开发。
显影剂AR 600-56比600-55慢，最好用于PMMA薄膜(AR-P-630-670)，如果需要高分辨率和高对比度，尽管开发时间较长.该显影剂也适用于共聚物薄膜。
与基于novolak的抗蚀剂相比，pmma层的发展在任何时候都可能被中断，并在以后没有问题的情况下继续进行。为了达到特别高的分辨率，可以使用异丙醇或异丙醇水显影剂。然而，在这种情况下，暴露需要很高的剂量。
水性碱性显影剂AR300-40系列产品由不同浓度的无金属离子显影剂组成。这些显影剂的使用尽量减少了基片表面金属离子污染的可能性。它们表现出优良的网状结构和作用，如水基溶液，不留下任何残留物。对于AR-P7000生产线的基于novolak的电子束电阻，相应的开发人员进行了特别的调整。特别是开发人员AR300-46和300-47是推荐的(一些也在稀释)为基础的电子束抵抗AR-P7000金属离子无离子显影剂对稀释变化更敏感。因此，这些开发人员应该非常小心地稀释，如果可能的话，在使用之前，使用规模，以确保可重复的结果。
较高的AR300-40显影剂浓度正式导致对正抗蚀剂显影剂系统具有更高的光敏性，从而使所需曝光强度最小、开发时间缩短和过程吞吐量高。然而，可能的缺点是更深的黑暗。在某些情况下，过程稳定性很低(太快)。负涂层要求在较高的显影剂浓度下交联时需要更高的暴露剂量。
低显影剂浓度的AR 300-40导致更高的对比度，积极的抗蚀剂膜，减少了在未曝光或仅部分暴露地区，即使在较长的开发时间。MandatorilFehler超链接Referenzungltigy，然而，曝光强度必须增加。在较低的显影剂浓度(用于交联)下，负阻要求较低的暴露剂量。
浸没式开发槽的开发效果受到工艺处理量和空气中CO2吸收等因素的*。吞吐量取决于暴露区域的比例。二氧化碳吸收也是由开发人员频繁打开容器造成的，并导致开发速率降低
