二氧化硅表面的羟基稳定吗

发布网友发布时间：2023-09-06 20:41

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热心网友时间：2024-06-13 02:05

二氧化硅（SiO2）表面的羟基（OH）是不稳定的。二氧化硅是一种无机硅化物，它的表面常常会生成羟基。但是，由于二氧化硅表面的羟基有较低的活化能，很容易被氧化，所以它是不稳定的。
在常温下，二氧化硅表面的羟基很容易与空气中的氧原子反应，生成二氧化硅表面的氧化层。这种氧化层对二氧化硅表面具有保护作用，使得二氧化硅表面不易被氧化。但是，这种氧化层也会使得二氧化硅表面的羟基无法被保留

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