溅射镍铬靶材为什么是平面靶

发布网友发布时间：2022-04-25 12:16

共4个回答

热心网友时间：2024-11-05 20:52

溅射镍铬（NiCr）靶材通常采用平面靶的形式，这是为了满足溅射工艺和薄膜的要求。
为什么溅射镍铬靶材通常是平面靶：
1. 溅射过程控制：平面靶材易于控制溅射过程中的能量传递和沉积速率。通过调整靶材到基底的距离和溅射功率等参数，可以更容易地实现均匀的薄膜沉积和良好的薄膜厚度控制。
2. 均匀沉积：平面靶材的表面是相对平坦的，这有助于实现均匀的沉积。在溅射过程中，离靶材较远的区域可能受到能量衰减的影响，导致沉积速率不均匀。通过使用平面靶材，可以降低这种不均匀性，以获得更均匀的薄膜。
3. 靶材制备和更换方便：平面靶材制备相对简单，可以通过切割、抛光等方式制备成所需的尺寸。此外，平面靶材更换也相对容易，可以根据需要更换靶材，减少停机时间。
4. 工艺兼容性：平面靶材在溅射设备中使用广泛，与多种溅射工艺和设备兼容。因此，采用平面靶材可以更方便地与不同的溅射系统集成和应用。

热心网友时间：2024-11-05 20:46

平面靶好成形，但利用率低，镍铬也有很多人在用旋转靶的，利用率高，主要看你设备需要平面还是旋转靶。

热心网友时间：2024-11-05 20:53

旋转靶加工难度高

热心网友时间：2024-11-05 20:50

跟材质有关吗，镍铬的旋转靶材也可以做，尺寸你可以跟商家具体沟通下，不过貌是平面靶材用的还是蛮多的，中诺新材