光刻机在透镜组和硅片之间为什么冲以液体后可以降低光刻机投影最小图像的尺寸？

发布网友发布时间：2023-07-22 17:50

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热心网友时间：2023-09-23 20:15

光刻机用于制造微小结构的设备。光刻机会将一个图像投影到硅片上，然后使用化学反应将图像转化为硅片上的实体结构。当光线经过透镜组时，透镜组可以将光线聚焦到硅片上的一个点，这样就可以使得光刻机投影到硅片上的图像变得更小。
在光刻机的光路中，通常会有一个流体层，这个流体层可以是液体或者是气体。这个流体层的作用是将光路中的空气替换成流体，从而使得光线能够更加准确地传播。当光线经过流体层时，它会受到流体的影响，这样就可以使得光刻机投影到硅片上的最小图像变得更小。
总的来说，使用流体层可以帮助光刻机投影出更精细的图像，因为流体层能够帮助把光线聚焦到硅片上的一个点。