发布网友 发布时间:2022-05-01 05:52
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热心网友 时间:2023-10-31 11:40
你好!叫真空镀膜机。真空镀膜原理是:主要主要利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面, 靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的氩气离子化, 造成靶与氩气离子间的撞击机率增加, 提高溅镀速率。一般金属镀膜大都采用直流溅镀,而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀,基本的原理是在真空中利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面,电浆中的阳离子会加速冲向作为被溅镀材的负电极表面,这个冲击将使靶材的物质飞出而沉积在基板上形成薄膜。热心网友 时间:2023-10-31 11:41
你说的这种是磁控溅射镀膜机,还有磁控中频多弧离子镀膜机也是充入氩气来溅射镀膜的。热心网友 时间:2023-10-31 11:41
真空镀膜机