国产ArF光刻胶能否实现7nm工艺的自给自足?
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发布时间：2024-06-01 00:42
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时间：2024-06-08 03:23
半导体领域的核心技术中，光刻胶虽不显眼却至关重要。全球市场长期被日美公司主导，前五大厂商占据85%份额。以往，国产光刻胶仅适用于低端工艺，ArF光刻胶尤其关键，193nm规格对28nm到7nm的先进工艺至关重要，但主要依赖进口，特别是EUV光刻胶，国内尚无生产厂商。
然而，这一局面正在改变。南大光电在互动平台宣布，其ArF光刻胶已进入客户测试阶段，标志着国产技术的重大突破。公司自2017年起，就瞄准193nm光刻胶研发，获得了国家02专项项目支持，计划在3年内建设生产线，实现年产25吨的产能，满足集成电路行业的高标准需求，这无疑打破了日美在ArF光刻胶领域的垄断局面，为国内7nm工艺的发展提供了强有力的支持。
