二次电子像的衬度主要来源于
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发布时间:2024-05-02 02:48
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时间:2024-08-07 23:12
二次电子像的衬度主要来源于形貌衬度。
二次电子的特点
1、能量小于50eV,询渗犁在固体样品中的平均自由程只有10~100nm。在这样浅的表层里,入射电子与样品原子只发出有限次数的散射,因此基本上未向侧向扩散。
二次电子成像
1、二次电子像主要是反映样品表面10nm左右的形貌特征,像的衬度是形貌衬度,衬度的形成主要取于样品表面相遥炼对于入射电子束的倾角。
如果样品表面光滑平整(无形貌特征),则不形成衬度;而对于表面有一定形貌的样品,其形貌可看成由许多不同倾斜程度的面构成的凸尖、台阶、凹坑等细精战愚多节屑拘档组成,这些细节的不同部位发才炼谅付射的二次电子数不同,从而产生衬度。
2、二次电子像分辨率高、主鸦乐无明显阴影效应、场深大、立体感强,是扫描电镜的主要成像方式(特别适用于粗糙样品表面的形貌观察),在材料及生命科学等领域有着广泛的应用。
背散射电子像
1、用背散射电子进行形貌分析时,其分辨率远比二次电子像低。
2、背散射电子能量高,以直线轨迹逸出样品表面,对于背向检测器的样品表面,因检测器无法收集到背散射电子而变成一片阴影,因此,其图象衬度很强,衬度太大会失去细节的层次,不利于分析。因此,背散射电子形貌分析效果远不及二次电子,故一般不用背散射电子信号。
二次电子像的衬度主要来源于
二次电子像的衬度主要来源于形貌衬度。二次电子的特点 1、能量小于50eV,询渗犁在固体样品中的平均自由程只有10~100nm。在这样浅的表层里,入射电子与样品原子只发出有限次数的散射,因此基本上未向侧向扩散。二次电子成像 1、二次电子像主要是反映样品表面10nm左右的形貌特征,像的衬度是形貌衬度,...
二次电子是怎样产生的?其特征是?二次电子的像衬度取决于什么因素
2)背散射电子能量高,以直线轨迹逸出样品表面,对于背向检测器的样品表面,因检测器无法收集到背散射电子而变成一片阴影,因此,其图象衬度很强,衬度太大会失去细节的层次,不利于分析.因此,背散射电子形貌分析效果远不及二次电子,故一般不用背散射电子信号....
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形貌衬度得形成就是由于某些信号,如二次电子、背散射电子等,其强度就是试样表面倾角得函数,而试样表面微区形貌差别实际上就就是各微区表面相对于入射电子束得倾角不同。【点击了解产品详情】由于二次电子信号主要来自样品表层5—10nm深度范围,它得强度与原子序数没有明确得关系,而仅对微区刻面相对于...
利用扫描电镜分析时二次电子与被散射的区别。
可看成由许多不同倾斜程度的面构成的凸尖、台阶、凹坑等细节组成,这些细节的不同部位发射的二次电子数不同,从而产生衬度。二次电子像分辨率高、无明显阴影效应、场深大、立体感强,是扫描电镜的主要成像方式,特别适用于粗糙样品表面的形貌观察。2.背散射电子像(不严格地俗称“成份像”或“原子序数...
二次电子像和背散射电子像的区别
,a大的面发射的二次电子多。3、特征不同:二次电子像主要是反映样品表面10nm左右的形貌特征,像的衬度是形貌衬度,衬度的形成主要取于样品表面相对于入射电子束的倾角。电子照射到待测样品的过程中,样品能发射一部分电子,背散射电子探头就会检测到这些电子,从而产生相应的电信号。
电子二次像和背散射电子像的区别
二次电子像和背散射电子像在显示表面形貌时,虽然原理相似,都是利用检测信号的强弱来反映表面衬度,但它们之间存在一些显著的区别。二次电子像主要是由于凸出的尖棱、小粒子以及比较陡的斜面处二次电子产额较多,在荧光屏上这部分的亮度较大。平面上的二次电子产额较小,亮度较低。而在深凹槽底部,尽管...
...散射电子下,原子系数越大是越亮还是越暗,二次电子下是不是相反的...
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电子显微镜SE和BSE图像有何区别?
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二次电子扫描像为什么可以反映样品表面或者断面的形貌信息,
经过放大、转换,变成电压信号,最后被送到显像管的栅极上并且调制显像管的亮度。显像管中的电子束在荧光屏上也作光栅状扫描,并且这种扫描运动与样品表面的电子束的扫描运动严格同步,这样即获得衬度与所接收信号强度相对应的扫描电子像,这种图象反映了样品表面的形貌特征。