发布网友 发布时间:2022-04-13 13:11
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热心网友 时间:2022-04-13 14:40
先植入再阱驱工艺形成的well,表面离子浓度最高,浓度随深度减小。所谓倒掺杂阱,是指先高能量大剂量植入离子到所需的深度,再低能量小剂量植入离子。不需长时间高温驱入,离子浓度最高的地方不是在表面。横向扩散比较小。不知道我说的对不对!Retrograded well,倒阱,用高能离子注入将杂质打入阱底部,这种阱不像常规的阱表面浓度最高,阱底部浓度最低,而是正相反,所以叫做倒阱。下面的浓度很大,那么电子或电洞到了基极以后,高浓深井可以有效的增加复合,就不想到集极去了,降低bipolar的放大系数,使没有backbias偏置的晶体管免于latch-up。Latchup 就是闩锁效应. 由PNPN结构产生寄生的PNP管与NPN管, 这两个寄生管连在一起, 相互放大, 最后电流变得很大, 短时间产生很大得电流, 局部过热,烧毁器件. 具体分析比较复杂, 可以找专门得书看.Retrograded well,倒阱,用高能离子注入将杂质打入阱底部,这种阱不像常规的阱表面浓度最高,阱底部浓度最低,而是正相反,所以叫做倒阱。这位老大解释的很好, 赞一个!学到东西了,不错哈!这个解释不错画出寄生PNPN结构的时候就可以看到在两个管子的BE结上分别并联了Rwell和Rsub倒掺杂就是把sub的电阻大幅降低了,从而避免Vdd到Vss之间由于某些原因产生流过上面两个电阻的电流时产生的压降减小,从而避免BE结正偏,pnpn管子开启非常好的解释,是cmos无法避免的问题,即nmos与旁边的pmos形成了PNPN结构好,学习了,不错的讨论