真空镀膜机的原理

发布网友发布时间：2022-05-05 05:31

共3个回答

好二三四时间：2022-07-19 10:13

真空镀膜机：主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

原理：它由高压部分和自动复位部分组成。高压部分包括三相高压变压器，三相桥式整流，RC阻容吸收网络,高压分压器。自动复位部分包括主开关电路，电流检测电路，栅压切换电路，帘栅控制电路。

热心网友时间：2022-07-19 07:21

真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材。
基片与靶材同在真空腔中。
蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。
对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜

热心网友时间：2022-07-19 08:39

PE-CVD450型真空镀膜机是在真空状态下等离子体增强化学气相沉积的设备。真空镀膜技术属于气相沉积技术，这是利用各种材料在气相间、气象和固体机体表面所产生的物理、化学过程而沉积薄膜的方法。分为物理气相沉积、化学气相沉积、物理化学气相沉积。根据化学反应的能量来自加热、光照、等离子体，因此化学气相沉积又可分为热CVD光CVD和等离子体CVD