...1.2微米,电压10V,PH4.0含量正常,用高温镍走位剂,有什么改善的方法...

发布网友发布时间：2024-03-27 05:25

共2个回答

热心网友时间：2024-03-29 22:49

在一个合理范围内电压表征到反应的过程中为反应体系中离子运动速度的快慢，也就是成膜速度的高低。而电位也是具有相同表征的，所以膜厚差异应该大。如果上镍慢，我个人认为应该从以下方面加以改善
1、反应体系中不仅只有pH值重要，还应检查关键离子的浓度是否在合理范围内
2、添加剂必须要正确使用，按照添加剂使用说明书进行使用、化验和调整
3、滚镀过程中工件在滚筒内的运动方式是否合理，一次装载量是否合适均能对成膜速度和成膜质量有影响
4、检查电路系统是否存在非正常损耗（比如因导电系统腐蚀、接头松动等）造成表显参数和实际到反应的参数存在差距
5、检查前处理质量是否达到要求，特别是活化或者弱浸蚀步骤

热心网友时间：2024-03-29 22:55

用法拉第定律算一下，是不是你装载量过大，没有足够大的电流密度上镀是不会快的。