光刻机inclination指标的含义

发布网友发布时间：2022-12-23 04:16

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热心网友时间：2023-12-28 06:46

光刻机有三大核心部件，EUV光源、双工件台、光学镜头。EUV光刻机零部件高达十万个，涉及面广，28纳米以下制程的EUV光刻机至少需要3至10的攻关突破。衡量指标就是数值孔径（NA），一般透镜数值孔径越大，收光能力越大、分辨率越高。因为EUV的镜头与上一代DUV光学系统完全不同，所以数值孔径大大降低。

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