发布网友 发布时间:2023-05-07 00:06
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热心网友 时间:2023-11-24 04:09
清洗。长期使用后,mask表面会积累导电金属污渍,影响镀膜的正常进行,必须要对mask进行清洗,以被重复利用。掩模版(mask)简称掩模,是光刻工艺不可缺少的部件。掩模上承载有设计图形,光线透过它,把设计图形透射在光刻胶上。掩模的性能直接决定了光刻工艺的质量。热心网友 时间:2023-11-24 04:09
清洗。长期使用后,mask表面会积累导电金属污渍,影响镀膜的正常进行,必须要对mask进行清洗,以被重复利用。掩模版(mask)简称掩模,是光刻工艺不可缺少的部件。掩模上承载有设计图形,光线透过它,把设计图形透射在光刻胶上。掩模的性能直接决定了光刻工艺的质量。