蒸发淀积金属时为什么要在真空中进行

发布网友发布时间：2023-04-10 15:24

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热心网友时间：2023-10-08 04:25

利用物质在高温下的热蒸发现象，可以制备各种薄膜材料. 真空蒸镀法薄膜沉积设备的主要组成部分包括真空室、真空系统、蒸发源、样品台等。与其他薄膜制备方法相比，真空蒸镀法的一个显著特点是其一般要在较高的背底真空度下进行薄膜的沉积。在真空度较高的情况下，热蒸发出来的物质原子或分子具有较长的平均自由程，因而可以从源物质表面呈直线状地转移、沉积到衬底的表面，在此过程中不会与杂质气体或其他气体的分子发生碰撞和化学反应。因此，利用真空蒸镀法可以制备纯度较高的薄膜材料。

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