国内四大光刻胶生产商是哪里？
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发布时间：2022-04-22 14:12
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时间：2023-09-29 02:28
国内四大光刻胶生产商：南大光电、容大感光、晶瑞电材、彤程新材。
1、南大光电
在光刻胶方面，公司建立了专业的研发团队，已搭建大规模的研发中心与百升级光刻胶中试生产线，产品研发进展和成果均获得业界专家的认可，其次，公司具有研制功能单体和功能树脂等光刻胶材料的能力，已研发的多款先进光刻胶产品在客户端的评估中获得好评。
2、容大感光
公司自成立以来，一直专注于光刻胶和PCB感光油墨等的研发生产，公司光刻胶产品分别为紫外线正胶和紫外线负胶，主要应用的领域是平板显示、发光二极管、集成电路等。
3、晶瑞电材
公司是我国最早规模量产光刻胶的为数不多的几家企业之一，历经多年的研发与积累，公司的光刻胶产品已达到国内外中高级水准，公司光刻胶产品序列齐全，产业化规模，盈利能力均处于行业领先水平。
4、彤程新材
子公司成立于2004年，是国内唯一一家拥有荷兰ASML曝光机的光刻胶企业，同时也是具备高档光刻胶自主研发和生产实力的企业。
光刻胶的介绍
光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。
光刻胶按其形成的图像分类有正性、负性两大类。在光刻胶工艺过程中，涂层曝光、显影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下来，该涂层材料为正性光刻胶。如果曝光部分被保留下来，而未曝光被溶解，该涂层材料为负性光刻胶。
按曝光光源和辐射源的不同，又分为紫外光刻胶（包括紫外正、负性光刻胶）、深紫外光刻胶、X-射线胶、电子束胶、离子束胶等。光刻胶主要应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工作业。光刻胶生产技术较为复杂，品种规格较多，在电子工业集成电路的制造中，对所使用光刻胶有严格的要求。
以上内容参考百度百科-江苏南大光电材料股份有限公司
