flash RTP退火

发布网友发布时间：2022-08-19 05:00

共1个回答

热心网友时间：2023-11-13 07:26

flashRTP是一种单片热处理设备，可将硅片温度快速升至200-1300℃的工艺所需温度，升/降温速率一般为20-250℃/s，降温速率快。RTP在快速热退火中的应用最为普遍。在离子注入后需要利用RTP设备来修复离子注入损伤，激活掺杂离子并有效控制杂质扩散。快速热退火主要有尖峰退火（Spike-anneal）、灯退火（LampAnnealing）、激光退火（LaserAnnealing）和闪光退火（FlashAnnealing）四种。

声明：本网页内容为用户发布，旨在传播知识，不代表本网认同其观点，若有侵权等问题请及时与本网联系，我们将在第一时间删除处理。E-MAIL:11247931@qq.com