佳能pla600f光刻机参数

发布网友发布时间：2023-01-28 19:22

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懂视网时间：2023-01-28 23:43

佳能光刻机22纳米，光刻机是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。光刻机可以分钟两种，分别是模板和图样大小一致的contact aligner，曝光时模板紧贴芯片；第二是类似投影机原理的stepper，获得比模板更小的曝光图样。

　　国内目前做光刻机的主要有上海微电子装备有限公司、中子科技集团公司第四十五研究所国电、合肥芯硕半导体有限公司、先腾光电科技、无锡影速半导体科技。其中，上海微电子装备有限公司已经量产的是90纳米，这是在中国最领先的技术。其国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备与成套工艺专项“的65nm光刻机研制，目前正在进行整机考核。对于光刻机技术来说，90纳米是一个技术台阶；45纳米是一个技术台阶；22纳米是一个技术台阶……90 纳米的技术升级到65纳米不难，但是45纳米要比65纳米难多了。路要一步一步走，中国16个重大专项中的02专项提出光刻机到2020年出22纳米的。目前主流的是45纳米，而32纳米和28纳米的都需要深紫外光刻机上面改进升级。

热心网友时间：2023-01-28 20:51

参数：最小分辨率约2μm；套刻精度±2μm；掩膜版尺寸5英寸X5英寸；对准间隙0~98μm；曝光间隙0~48μm；操作杆可扫视范围X方向10mm、Y方向10mm。该设备为一台半自动接触式曝光机，需与其余辅助设备配套完成整个光刻工艺。