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发布网友 发布时间：2023-10-13 11:06

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热心网友 时间：2024-12-14 05:45

模型已用于光致抗蚀剂研究，以了解深入重点亏损时，印刷
接触消极抗拒[ 10 ] ，原因为人为高价值的抵制对比时，表面
抑制是当前[ 11 ] ，有可能暴露优化，以最大限度地过程中纬度[ 12,13 ] ，并角色扩散化学增幅抗拒[ 14 ] 。平版模式，现在的标准工具光致抗蚀剂的设计和评价。造型一向被用来作为一种工具，用于量化光学邻近效应，并确定算法几何依赖面具偏置[ 15,16 ] 。大多数人
会考虑造型，以一个元素所需的任何光学邻近校正计划。缺陷
印刷适性一直是一个难题，以明白。该印刷适性的一个缺陷取决于
相当对成像系统和抵制使用，以及作为地位的缺陷相对于其他
模式对面具的大小和传输特性的缺陷。建模已经证明本身是一个
宝贵而准确的工具，为预测印刷适性的缺陷[ 17,18 ] 。造型也被用来
了解计量的平版结构[ 19-22 ] ，并继续寻找新的应用在几乎
每一个方面的光刻研究。事实上，在建模已被证明是一项不可缺少的工具预测未来光刻性能和评价的理论能力和局限性的扩展光刻到久远的将来。
其中一个最主要的原因，光刻建模已成为这样一个标准的工具，为研究
活动是有能力来模拟范围如此广泛的光刻条件。而实验室试点是有限的，以设备和材料就手（某一特定波长和数值光圈步进，由于光致抗蚀剂） ，模拟给出了一个几乎是无限阵列的可能条件。
从高数值孔径，以低波长，假设抗拒任意面具结构，模拟提供能力而言， "实验" ，就步进器，你并不拥有与光阻说尚未作出。除此之外，还可以有一个探索影子之间的界线可能和不可能吧？

热心网友 时间：2024-12-14 05:46

模型已用于光致抗蚀剂研究，以了解深入重点亏损时，印刷
接触消极抗拒[ 10 ] ，原因为人为高价值的抵制对比时，表面
抑制是当前[ 11 ] ，有可能暴露优化，以最大限度地过程中纬度[ 12,13 ] ，并
角色扩散化学增幅抗拒[ 14 ] 。平版模式，现在的标准工具
光致抗蚀剂的设计和评价。造型一向被用来作为一种工具，用于量化光学
邻近效应，并确定算法几何依赖面具偏置[ 15,16 ] 。大多数人
会考虑造型，以一个元素所需的任何光学邻近校正计划。缺陷
印刷适性一直是一个难题，以明白。该印刷适性的一个缺陷取决于
相当对成像系统和抵制使用，以及作为地位的缺陷相对于其他
模式对面具的大小和传输特性的缺陷。建模已经证明本身是一个
宝贵而准确的工具，为预测印刷适性的缺陷[ 17,18 ] 。造型也被用来
了解计量的平版结构[ 19-22 ] ，并继续寻找新的应用在几乎
每一个方面的光刻研究。事实上，在建模已被证明是一项不可缺少的工具预测
未来光刻性能和评价的理论能力和局限性的扩展
光刻到久远的将来。
其中一个最主要的原因，光刻建模已成为这样一个标准的工具，为研究
活动是有能力来模拟范围如此广泛的光刻条件。而实验室
试点是有限的，以设备和材料就手（某一特定波长和数值
光圈步进，由于光致抗蚀剂） ，模拟给出了一个几乎是无限阵列的可能条件。
从高数值孔径，以低波长，假设抗拒任意面具结构，
模拟提供能力而言， "实验" ，就步进器，你并不拥有与光阻说
尚未作出。除此之外，还可以有一个探索影子之间的界线可能和
不可能吧？

热心网友 时间：2024-12-14 05:47

可以提供一些术语的中英对应吗